[发明专利]一种基片安装平台和一种等离子处理装置及其运行方法

摘要

本发明涉及一种基片安装平台和一种等离子处理装置及其运行方法，一种等离子处理装置，包括一反应腔，反应腔内下方包括导电基座、静电夹盘、托盘、基片；其中静电夹盘固定在所述导电基座上，托盘放置在所述静电夹盘上，基片固定在所述托盘内，所述托盘包括一平板部和一向上凸起部，其中平板部上表面直径大于所述基片，所述凸起部环绕所述平板部和位于平板部上的基片，所述静电夹盘直径大于所述基片的直径且小于等于托盘的直径。

主权项

一种等离子处理装置，包括：一反应腔，反应腔内包括一种基片安装平台，所述基片安装平台包括：导电基座，导电基座上方固定有一个静电夹盘，静电夹盘上方包括一个托盘，所述托盘包括一平板部和一向上凸起部，其中平板部上表面包括直径大于等基片的基片安装区域，所述凸起部环绕所述基片安装区域，其中所述静电夹盘直径大于所述基片的直径；所述托盘外围还围绕有一个绝缘材料制成的隔离环，所述隔离环固定在所述导电基座上方；反应腔内还包括反应气体供应装置和等离子发生装置，所述等离子发生装置用于激励反应气体，使反应气体产生等离子体并利用等离子体对基片进行处理；所述导电基座内还包括多个抬升顶针，所述抬升顶针被驱动装置驱动可以上下移动，等离子处理装置还包括机械臂用以移动基片或托盘；所述抬升顶针的顶端能穿过托盘上对应位置开设的通孔以顶起托盘上方的基片，所述抬升顶针顶端下方还包括一扩展部能顶起开设有所述通孔的托盘。