[发明专利]掩模版的清洗方法及装置有效

专利信息
申请号: 201410263585.6 申请日: 2014-06-12
公开(公告)号: CN104007610B 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 匡友元 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82;B08B3/10
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种掩模版的清洗方法及装置,所述方法包括以下步骤步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。本发明提供的一种掩模版的清洗方法及装置,大大缩短了掩模版的清洗周期,提高了清洗产能,并降低了材料残留的几率。
搜索关键词: 模版 清洗 方法 装置
【主权项】:
一种掩模版的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理;所述步骤2与步骤3在一微波干式清洗槽里进行,所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的药液喷淋头,通过微波发生装置对掩模版进行微波加热,通过药液喷淋头对掩模版喷淋药液。
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