[发明专利]掩模版的清洗方法及装置有效
申请号: | 201410263585.6 | 申请日: | 2014-06-12 |
公开(公告)号: | CN104007610B | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 匡友元 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B3/10 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种掩模版的清洗方法及装置,所述方法包括以下步骤步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理。本发明提供的一种掩模版的清洗方法及装置,大大缩短了掩模版的清洗周期,提高了清洗产能,并降低了材料残留的几率。 | ||
搜索关键词: | 模版 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种掩模版的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供待清洗掩模版,该掩模版由金属制成,其上附有有机材料膜层;步骤2、对该待清洗的掩模版进行微波加热,使附着在掩模版的有机材料膜层破碎;步骤3、停止微波加热,对微波加热过的掩模版喷淋药液,将破碎的有机材料膜层冲洗脱离掩模版;步骤4、使用药液对掩模版上剩余的有机材料膜层进行清洗;步骤5、对清洗过的掩模版进行漂洗,以洗掉残留在掩模版上的药液;步骤6、使用微波对掩模版进行干燥处理;所述步骤2与步骤3在一微波干式清洗槽里进行,所述微波干式清洗槽包括槽体、设于槽体底部的微波发生装置、及设于槽体顶部的药液喷淋头,通过微波发生装置对掩模版进行微波加热,通过药液喷淋头对掩模版喷淋药液。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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