[发明专利]一种MEMS压阻式加速度传感器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410263747.6 申请日: 2014-06-13
公开(公告)号: CN104062462A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 董健;蒋恒;孙笠 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: G01P15/12 分类号: G01P15/12;B81B7/00;B81C1/00
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;王兵
地址: 310014 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种MEMS压阻式加速度传感器及其制造方法。本发明提供了一种基于阳极键合封装的MEMS压阻式加速度传感器,所述的传感器具有第一键合玻璃-硅基-第二键合玻璃三明治结构;所述硅基通过采用表面微加工技术与体微加工技术制造带有淡硼扩散压阻的悬臂梁作为压阻式加速度传感器结构,并且利用二次阳极键合技术进行圆片级封装,第一次阳极键合采用硅-玻璃阳极键合,第二次阳极键合利用非晶硅-玻璃阳极键合技术的封装解决了传统硅-玻璃阳极键合过程中容易击穿硅表面PN结和产生离子污染等缺点;本发明传感器结构新颖、重量轻、体积小、稳定性好、抗污染能力强、可靠性好,在航空航天、军事、汽车、环境监测等领域具有一定的应用前景。
搜索关键词: 一种 mems 压阻式 加速度 传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种基于阳极键合封装的MEMS压阻式加速度传感器,其特征在于所述的传感器具有第一键合玻璃‑硅基‑第二键合玻璃三明治结构;所述的硅基内部形成有压阻式加速度传感器悬臂梁,硅基的正面形成有压阻式加速度传感器的压阻区域,所述压阻式加速度传感器的压阻区域位于压阻式加速度传感器悬臂梁的上表面根部,并且注入有淡硼形成4根淡硼扩散压阻,同时淡硼扩散压阻的内部注入有浓硼形成浓硼欧姆接触区,所述压阻式加速度传感器压阻区域的上方沉积有二氧化硅层,二氧化硅层上方沉积有第一氮化硅层,所述的二氧化硅层和第一氮化硅层一起作为绝缘钝化层,所述的绝缘钝化层开有引线孔,利用金属导线连通压阻区域,并且压阻式加速度传感器压阻区域的4根淡硼扩散压阻通过金属导线构成惠斯顿全桥连接,所述金属导线的上方沉积有第二氮化硅层,所述第二氮化硅层的上方沉积有非晶硅,并且,利用非晶硅作为台阶,所述的非晶硅与第一键合玻璃键合后形成一个真空腔体;所述硅基的正面还形成有浓硼导线,所述浓硼导线的上方连接有金属管脚,浓硼导线将传感器工作区与金属管脚连通,所述硅基的背面与第二键合玻璃阳极键合。 
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