[发明专利]薄膜太阳能电池及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201410268834.0 申请日: 2014-06-16
公开(公告)号: CN104851939B 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 陈世伟 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0296;H01L31/073;H01L31/0216;H01L31/032;H01L31/0445;H01L31/06;H01L31/0749
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明描述了一种太阳能电池器件及其制造方法。通过如下方法制造该太阳能电池在衬底的前侧上形成后接触层,在后接触层上形成吸收层,在衬底的后侧上施加保护层,在吸收层上沉积缓冲层。在衬底后侧上沉积了过量的缓冲材料,以及去除具有过量的缓冲材料的保护层。
搜索关键词: 薄膜 太阳能电池 及其 形成 方法
【主权项】:
一种用于制造太阳能电池的方法,包括:在衬底的前侧上形成后接触层;在所述后接触层上形成吸收层;在所述衬底的后侧上施加保护层;在所述吸收层上沉积缓冲层,其中,在所述沉积期间在所述衬底的后侧上沉积过量的缓冲材料;以及去除在所述衬底的后侧上的所述保护层和所述过量的缓冲材料。
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