[发明专利]彩膜阵列基板、显示装置及彩膜阵列基板的制作方法在审
| 申请号： | 201410270639.1 | 申请日： | 2014-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN104076550A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 靳福江;陈轶 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜阵列基板、显示装置及彩膜阵列基板的制作方法，涉及显示技术领域。所述彩膜阵列基板包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列、形成在所述薄膜晶体管阵列上的彩色滤光膜，还包括形成在所述彩色滤光膜上的黑矩阵、以及形成在所述黑矩阵上的平坦化层。本发明调整了黑矩阵在彩膜阵列基板制程中的工艺顺序，通过在黑矩阵上形成平坦化层，隔绝了黑矩阵与第一电极层、第二电极层之间的距离，有效防止了黑矩阵对第一电极层和第二电极层之间电场的影响，解决了黑矩阵对平面电场产生串扰信号的问题，改善了显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 显示装置 制作方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜阵列基板，包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列、形成在所述薄膜晶体管阵列上的彩色滤光膜，其特征在于，还包括形成在所述彩色滤光膜上的黑矩阵、以及形成在所述黑矩阵上的平坦化层。
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