[发明专利]8mm基片集成波导环行器失效率检测方法有效

专利信息
申请号: 201410273153.3 申请日: 2014-06-18
公开(公告)号: CN104266676A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 黄陈;汪晓光;鲁莉娟;董晨;朱帅;罗力兢;陈良;邓龙江 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01D21/02 分类号: G01D21/02;G01R31/00
代理公司: 成都惠迪专利事务所(普通合伙) 51215 代理人: 刘勋
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 8mm基片集成波导环行器失效率检测方法,涉及微波器件技术领域。本发明包括下述步骤:1)确定SIW结构失效率λG1:2)确定金属通孔失效率λG2:3)确定SIW转微带失效率λG3:4)确定铁氧体圆柱失效率λG4:5)确定永磁体失效率λG5;6)以下式确定环行器整体失效率λsp:λsp=λG1G2G3G4G5本发明的有益效果是:检测结果可靠,适用范围广。
搜索关键词: mm 集成 波导 环行器 失效 检测 方法
【主权项】:
8mm基片集成波导环行器失效率检测方法,其特征在于,包括下述步骤:1)按照下式确定SIW结构失效率λG1:λG1=(N*λb1b2EπC其中,N:金属化通孔数量,πE:环境系数,πC:复杂度系数;2)按照下式确定金属通孔失效率λG2:λG2=(N*λb1b2Eλb1:金属孔直径D参数基本失效率,计算公式为:λb2:金属孔P参数基本失效率,计算公式为:3)按照下式确定SIW转微带失效率λG3:λG3=(λw2w3lEλw2:SIW转微带连接SIW处金属导带宽度基本失效率,计算公式为:λw3:SIW转微带连接50欧姆微带处金属导带宽度基本失效率,计算公式为:λl:SIW转微带变换器整体长度l基本失效率,计算公式为:4)按照下式确定铁氧体圆柱失效率λG4:λG4=λR&Tc,计算公式为:公式中ΔT确定如下:当铁氧体半径R形变量达到设计容差x6所需温度小于居里温度Tc时:<mrow><mi>&Delta;T</mi><mo>=</mo><mfrac><mrow><mi>x</mi><mn>6</mn></mrow><mrow><mi>R</mi><mo>&CenterDot;</mo><msub><mo>&PartialD;</mo><mn>3</mn></msub></mrow></mfrac></mrow>当铁氧体半径R形变量达到设计容差x6所需温度大于居里温度Tc时:ΔT=Tc;5)按照下式确定永磁体失效率λG5λG5=λTc2,计算公式为:6)以下式确定环行器整体失效率λsp:λsp=λG1G2G3G4G5λGi可通过MTBF求得:λGi=1/MTBFGi,MTBF为平均无故障时间,即两次故障之间系统能够正常工作的时间的平均值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410273153.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top