[发明专利]气体喷淋装置、化学气相沉积装置和方法有效

专利信息
申请号: 201410273262.5 申请日: 2014-06-18
公开(公告)号: CN105441904B 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 姜勇;杜志游 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 应战;骆苏华
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种气体喷淋装置、化学气相沉积装置和方法,气体喷淋装置包括:喷淋头,喷淋头包括中心区和包围中心区的外围区,喷淋头的中心区和外围区具有平行排列的若干第二喷淋口,第二喷淋口用于输出第二气体,相邻第二喷淋口之间具有第一喷淋口,第一喷淋口包括位于中心区的第一子喷淋口、以及位于外围区的第二子喷淋口,第一子喷淋口和第二子喷淋口相互隔离,第一子喷淋口用于输出第一气体,第二子喷淋口用于输出第二气体;与第一子喷淋口连接的第一气体通道;与第二喷淋口和第二子喷淋口连接的第二气体通道。采用气体喷淋装置的化学气相沉积装置的成膜质量改善。
搜索关键词: 喷淋口 气体喷淋装置 中心区 化学气相沉积装置 喷淋头 外围区 气体通道 输出 质量改善 成膜 包围 隔离
【主权项】:
1.一种气体喷淋装置,其特征在于,包括:喷淋头,所述喷淋头底面喷气区域包括中心区和包围所述中心区的外围区,所述喷淋头的中心区和外围区具有平行排列的若干第二喷淋口,所述第二喷淋口用于输出第二气体,相邻第二喷淋口之间具有第一喷淋口,所述第一喷淋口和第二喷淋口相互交替分布,所述第一喷淋口包括位于中心区的第一子喷淋口、以及位于外围区的第二子喷淋口,所述第一子喷淋口和第二子喷淋口相互隔离,所述第一子喷淋口用于输出第一气体,所述第二子喷淋口用于输出第二气体,所述第一气体和第二气体之间能够发生成膜反应;与第一子喷淋口连接的第一气体通道,所述第一气体自所述第一气体通道通过,并从第一子喷淋口输出;与第二喷淋口和第二子喷淋口连接的第二气体通道,所述第二气体通道与第一气体通道相互隔离,所述第二气体自所述第二气体通道通过,并从第二喷淋口和第二子喷淋口输出。
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