[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201410273389.7 申请日: 2014-06-18
公开(公告)号: CN104078470B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 高山 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1333
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,属于液晶显示领域。所述阵列基板包括基板以及位于所述基板上相邻的第一区域和第二区域,所述第一区域和第二区域的段差超过阈值,其中,所述基板上设置有段差补偿图案,在垂直于基板的方向上所述段差补偿图案与所述第一区域以及第二区域均存在重叠,且所述段差补偿图案不超出所述第一区域和所述第二区域。本发明的技术方案能够减小阵列基板上数据线处与相邻区域的段差,从而在进行摩擦工艺时,增大聚酰亚胺液被摩擦到的范围,在不降低像素开口率的情况下,降低漏光风险。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括基板以及位于所述基板上相邻的第一区域和第二区域,所述第一区域和第二区域的段差超过阈值,其特征在于,所述基板上设置有段差补偿图案,在垂直于基板的方向上所述段差补偿图案与所述第一区域以及第二区域均存在重叠,且所述段差补偿图案不超出所述第一区域和所述第二区域,其中,所述第一区域为数据线所在区域,所述第二区域为数据线相邻区域;所述段差补偿图案为采用栅金属层形成。
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