[发明专利]灰阶掩模板和彩膜基板及制作方法、显示装置

摘要

本发明公开了灰阶掩模板及其制作方法、彩膜基板及其制作方法、显示装置。本发明的灰阶掩模板，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层包括曝光区，其中：所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。本发明的灰阶掩模板的曝光区的透光率整体较均匀，因而通过该灰阶掩模板制作的柱状物的顶面呈平面状而不是传统的凸面状，这样在受到外力作用下时其硬度呈现出线性变化，避免或减轻液晶面板对外界压力变化比较敏感的L0漏光和Touch Mura等不良。

主权项

一种灰阶掩模板，其特征在于，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层包括曝光区，其中：所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。