[发明专利]一种偏振纯化装置无效
| 申请号： | 201410289361.2 | 申请日： | 2014-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN104035204A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 范真节;邢廷文;林妩媚;廖志杰;张海波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 孟卜娟;李新华 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种偏振纯化装置，解决了NA1.35浸没式光刻技术中光束传输因材料双折射和镀膜等因素导致光束偏振度下降的问题，所述的偏振纯化装置偏振纯化装置包括前组波片堆和后组波片堆；前组波片堆倾斜放置，前组波片堆的表面法线与入射光线呈布儒斯特角放置；后组波片堆与前组波片堆呈八字对称形放置；且后组波片堆表面法线也与入射光线呈布儒斯特角放置，后组波片堆用于补偿前组波片堆在提高光束偏振度过程中引起的光束偏离，保证输入输出光束同向且光束偏离为0。本发明的偏振纯化装置，利用波片堆的原理，获得了高偏振度、高光束透过率、无光束偏离的线偏振光束。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偏振 纯化 装置 | ||
【主权项】：
一种偏振纯化装置，其特征在于：所述偏振纯化装置包括前组波片堆和后组波片堆；所述前组波片堆倾斜放置，所述前组波片堆的表面法线与入射光线呈布儒斯特角放置；所述后组波片堆与所述前组波片堆呈八字对称形放置；且所述后组波片堆表面法线也与所述入射光线呈布儒斯特角放置，所述后组波片堆用于补偿所述前组波片堆在提高光束偏振度过程中引起的光束偏离，保证输入输出光束同向且光束偏离为0。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410289361.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
