[发明专利]一种无腐蚀抗氧化的机械设备抛光液

摘要

本发明公开了一种无腐蚀抗氧化的机械设备抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：水杨酸钠2-6份，醋酸钠20-35份，草酸钠8-10份，苯甲酸钠2-8份，EDTA1-5份，除油剂3-8份，除油粉7-12份，表调剂11-15份，硫酸钾7-16份，无水硫酸钠10-16份，氨水7-13份，氢氧化铝7-13份，空心玻璃微珠9-13份，山梨醇11-18份，聚丙烯7-10份，硼酸钠2-4份，片层结构的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。本发明的化学机械抛光液可抑制低介电材料的抛光速率，而对铜和二氧化硅的去除速率影响不大，同时可减少被抛光材料的表面污染物。

主权项

一种无腐蚀抗氧化的机械设备抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：水杨酸钠2‑6份，醋酸钠20‑35份，草酸钠8‑10份，苯甲酸钠2‑8份，EDTA1‑5份，除油剂3‑8份，除油粉7‑12份，表调剂11‑15份，硫酸钾7‑16份，无水硫酸钠10‑16份，氨水7‑13份，氢氧化铝7‑13份，空心玻璃微珠9‑13份，山梨醇11‑18份，聚丙烯7‑10份，硼酸钠2‑4份，片层结构的云母粉2‑3份，空心玻璃微珠1‑2份。