[发明专利]基于Logistic混沌映射和Walsh序列的非对称水印方法有效

专利信息
申请号: 201410298407.7 申请日: 2014-06-26
公开(公告)号: CN104063838B 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 吴胜兵;霍瑶;马艳玲;李兴林 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00;G06F21/16
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司31204 代理人: 郁旦蓉
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种基于Logistic混沌映射和Walsh序列的非对称水印算法,包括如下步骤根据载体图像的每块系数块的最大奇异值得到特征矩阵;选取与特征矩阵不相关的Walsh序列为公钥水印,根据Logistic映射动力学方程得到混沌序列,将所述混沌序列转换为取值为±1的序列并从中截取一个与特征矩阵不相关的序列作为私钥水印;根据公钥水印和私钥水印的加权和得到嵌入水印,根据嵌入水印的信息生成水印图像;对水印图像进行检测。本发明的技术方案安全性高,能够较好的保护版权,检测性能好,鲁棒性强。
搜索关键词: 基于 logistic 混沌 映射 walsh 序列 对称 水印 算法
【主权项】:
一种基于Logistic混沌映射和Walsh序列的非对称水印方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一:特征矩阵S的构建取m×m的图像Am×m作为载体图像,对所述载体图像进行DCT变换,从DCT系数中选取4k×4k个中频系数,构成矩阵B4k×4k,将所述矩阵B4k×4k分割成N块互不重叠的4×4系数块,N=k×k,将第i块所述系数块记为Bi,i∈[1,N],根据[ui,si,vi]=svd(Bi),对每块所述系数块进行奇异值分解并提取每块的最大奇异值,共得到N个最大奇异值,将N个所述最大奇异值构成特征矩阵S;步骤二:公钥水印Wp和私钥水印Ws的构建选取与所述特征矩阵S不相关的长度为N的Walsh序列为公钥水印Wp,即根据Logistic映射动力学方程xn+1=μ0xn(1‑xn),得到混沌序列X={x1,x2,Λ,xn},式中,μ0为分支参数,μ0∈(0,4),x的初值x0∈(0,1),根据xi=mod(round(xi×108),2),将所述混沌序列X转换为取值为±1的序列,mod表示取模运算,round表示就近取整,从取值为±1的序列中,截取一个与所述特征矩阵S不相关的长度为N的序列Y={y1,y2,Λ,yN}作为私钥水印Ws,即上述公钥水印Wp和私钥水印Ws的构建无先后顺序;步骤三:生成水印图像A'm×m计算所述公钥水印Wp和所述私钥水印Ws的加权和,根据所述加权和构造得到嵌入水印Ww,该嵌入水印Ww的构造方法为:Ww=αWs+βWp,α、β均为预设参数,α,β∈(0,1),根据S'=S+λWw,λ为预设参数,将所述嵌入水印Ww的信息采用加法嵌入所述特征矩阵S中,得到特征矩阵S',对所述特征矩阵S'中每块所述系数块对应的奇异值进行奇异值反变换,得到修改后的DCT系数,采用修改后的DCT系数对所述载体图像进行DCT反变换,得到m×m的水印图像A'm×m;步骤四:水印检测对所述水印图像A'm×m采用所述步骤一的操作,得到特征矩阵S”,所述特征矩阵S”=S+λWW+n0=S+λ(αWs+βWp)+n0,n0表示由各种攻击所引起的干扰信号,采用Wp_threshold、Ws_threshold分别表示公钥检测阈值和私钥检测阈值,所述公钥检测阈值Wp_threshold的设定方法为:其中,为所述特征矩阵S的均值,为所述公钥水印Wp的均值,为所述公钥水印Wp的能量,根据上述公钥检测阈值Wp_threshold的设定方法,设定所述私钥检测阈值Ws_threshold,采用Wp_test、Ws_test分别表示公钥检测的检测值和私钥检测的检测值,根据公式:Wp_test=1NWpT*S′′=1NWpT(S+λ(αWs+βWp)+n0)=1NWpT*S+1NWpT*n0+λαNWpT*Ws+λβNWpT*Wp]]>计算得到所述Wp_test,参照相同计算方法计算得到所述Ws_test,将所述Wp_test与所述Wp_threshold进行比较,当Wp_test≥Wp_threshold,则判定所述公钥水印Wp存在,反之,则判定所述公钥水印Wp不存在,将所述Ws_test与所述Ws_threshold进行比较,当Ws_test≥Ws_threshold,则判定所述私钥水印Ws存在,反之,则判定所述私钥水印Ws不存在。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海理工大学,未经上海理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410298407.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top