[发明专利]电子元件及其制法有效
申请号: | 201410298600.0 | 申请日: | 2014-06-26 |
公开(公告)号: | CN105140208B | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 颜精一;蔡武卫;高伟程;陈韦翰 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | H01L23/528 | 分类号: | H01L23/528;H01L21/768 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;祁建国 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明有关于一种电子元件及其制法,该电子元件包括承载板、第一金属层、介电层、半导体层、软质层、至少一第一开孔与至少一第二金属层。第一金属层配置于承载板上。介电层配置于第一金属层上,第一金属层与介电层的图案一致。半导体层配置于介电层上。软质层配置于承载板上,以包覆第一金属层、介电层与半导体层,软质层的杨氏系数小于40十亿帕斯卡。第一开孔贯穿软质层。第二金属层配置于软质层上与第一开孔中,以电性连接半导体层。 | ||
搜索关键词: | 电子元件 及其 制法 | ||
【主权项】:
1.一种电子元件,其特征在于,包括:承载板;第一金属层,其配置于该承载板上;介电层,其配置于该第一金属层上而未接触该承载板,且该介电层具有图案,该介电层与该第一金属层的外缘图案一致;半导体层,其配置于该介电层上;软质层,其配置于该承载板上且接触该第一金属层的侧面,以包覆该第一金属层、该介电层与该半导体层,且该软质层的杨氏模数小于40十亿帕斯卡;至少一第一开孔,其贯穿该软质层;以及至少一第二金属层,其配置于该软质层上与该第一开孔中,以电性连接该半导体层。
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