[发明专利]一种Ag/TiO2纳米复合变色材料制备方法有效
申请号: | 201410298799.7 | 申请日: | 2014-06-30 |
公开(公告)号: | CN104120394A | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
发明(设计)人: | 左娟;王镇国;陈阿娇 | 申请(专利权)人: | 左娟 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/14;B82Y40/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种Ag/TiO2纳米复合变色材料制备方法,采用活性磁控溅射技术沉积制备Ag纳米颗粒分散在TiO2基质中的纳米复合材料。在一定的活性磁控技术条件下沉积TiO2金属氧化物时,下层的Ag膜由于等离子体中活性氧的作用形成Ag纳米结构,从而形成Ag/TiO2结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 ag tio sub 纳米 复合 变色 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种Ag/TiO2纳米复合变色材料制备方法,其特征在于包括以下步骤:步骤一:沉积TiO2膜采用JGP450型磁控溅射镀膜机,该镀膜机配备有2个射频溅射靶,Ag膜的溅射使用99.99%纯度的Ag金属靶,TiO2膜的溅射使用99.9%纯度TiO2烧结多晶靶材,频率为13.56MHz,溅射气体为Ar;首先将真空室抽至1×10‑4pa,溅射气压为0.025mbar,射频溅射功率为50W,玻璃基板用丙酮、乙醇和二次去离子水超声波清洗15min,之后沉积TiO2,TiO2沉积的厚度约为10nm,所述TiO2的沉积条件为室温,射频输出功率(W)为100,真空度(mbar)为0.025,Ar流速(sccm)为8;步骤二:沉积Ag膜于室温下在Ar流量为8sccm下玻璃上沉积30s的Ag膜;步骤三,沉积TiO2膜;将步骤一中沉积了Ag膜的基体上再次沉积TiO2,所沉积的厚度为50‑100nm,所述TiO2的沉积条件为于室温下,射频输出功率(W)为150,真空度(mbar)为0.025,Ar流速(sccm)为7,氧气流速(sccm)为1;制得Ag/TiO2纳米复合变色材料。
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