[发明专利]一种In2S3/CuInS2薄层敏化的宽带半导体光阳极及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410302030.8 申请日: 2014-06-26
公开(公告)号: CN104167294A 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 徐雪青;安萍;梁柱荣;徐刚 申请(专利权)人: 中国科学院广州能源研究所
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20;H01G9/042
代理公司: 广州科粤专利商标代理有限公司 44001 代理人: 莫瑶江
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种In2S3/CuInS2薄层敏化的宽带半导体光阳极,由导电基片、宽带半导体膜层和In2S3/CuInS2薄层组成,在导电基片表面沉积有宽带半导体膜层以构成宽带半导体膜电极,在宽带半导体膜电极表面先后包覆In2S3与CuInS2薄层,In2S3的厚度在1-5nm之间,CuInS2的厚度在2-15nm之间。采用连续离子层吸附反应法制备。本发明的In2S3/CuInS2薄层敏化光阳极结构不仅制备工艺简便,可通过控制溶液浓度及敏化次数控制晶粒大小,优化CuInS2的化学计量比,减少材料缺陷,而且引入的缓冲层In2S3能有效抑制电子复合,有利于电子注入,并可以有效避免因CuInS2中的Cu扩散到TiO2而带来的污染和其化学计量比的变化,对于提高CuInS2半导体纳米晶敏化太阳电池光电转换效率具有积极意义。
搜索关键词: 一种 in sub cuins 薄层 宽带 半导体 阳极 及其 制备 方法
【主权项】:
一种In2S3/CuInS2薄层敏化的宽带半导体光阳极,其特征在于由导电基片、宽带半导体膜层和In2S3/CuInS2薄层组成,在导电基片表面沉积有宽带半导体膜层以构成宽带半导体膜电极,在宽带半导体膜电极表面先后包覆In2S3与CuInS2薄层,In2S3的厚度在1‑5nm之间,CuInS2的厚度在2‑15nm之间。
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