[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201410306543.6 | 申请日: | 2014-06-30 |
公开(公告)号: | CN104900717A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | 下条亮平;田中文悟 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/868 | 分类号: | H01L29/868;H01L29/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够提高恢复耐量的半导体装置。半导体装置具备:第1导电型的第1半导体层(11),具有第1面(11a)和与第1面对置的第2面(11b);第2导电型的第2半导体层(12),设置于第1面侧;第2导电型的第3半导体层(13),部分地设置在第2半导体层内;第1导电型的第4半导体层(14),设置在第1半导体层与第2半导体层之间,具备与第3半导体层对置且具有第1杂质浓度的第1区域(14a)、以及具有比第1杂质浓度高的第2杂质浓度的第2区域(14b);第1导电型的第5半导体层(15),设置于第2面;导电体(16),经由绝缘膜(17)与第1半导体层、第2半导体层以及第3半导体层相接。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,具备:第1导电型的第1半导体层,具有第1面和与所述第1面对置的第2面;第2导电型的第2半导体层,设置于所述第1面侧;第2导电型的第3半导体层,部分地设置在所述第2半导体层内;第1导电型的第4半导体层,设置在所述第1半导体层与所述第2半导体层之间,具有与所述第3半导体层对置且具有第1杂质浓度的第1区域、以及具有比所述第1杂质浓度高的第2杂质浓度的第2区域;第1导电型的第5半导体层,设置于所述第2面;导电体,经由绝缘膜与所述第1半导体层、所述第2半导体层以及所述第3半导体层相接;第1电极,与所述第2半导体层、所述第3半导体层以及所述导电体电连接;以及第2电极,与所述第5半导体层电连接。
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