[发明专利]一种电磁弹射启动式掩模台系统有效
| 申请号： | 201410306905.1 | 申请日： | 2014-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104049472A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 张鸣;朱煜;成荣;杨开明;支凡;张金;陈安林;张利;赵彦坡;胡清平;田丽;徐登峰;尹文生;穆海华;胡金春 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京华卓精科科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种电磁弹射启动式掩模台系统，用于光刻机系统中，所述掩模台系统包含底座、平衡块组件、掩模台动台和测量系统。所述平衡块组件包括平衡块、掩模台YZ向电机线圈和掩模台X向电机线圈；所述掩模台动台包括掩模台动台基底、掩模台YZ向电机磁钢阵列和掩模台X向电机磁钢阵列；所述电磁弹射启动式掩模台系统还包括弹射结构，所述弹射结构包括弹射结构定子磁钢阵列、弹射结构动子磁钢阵列、弹射台、弹射台电机动子、弹射台电机定子和导轨。本发明采用弹射结构，提高了光刻机掩模台的启动和停止阶段的加速度，减小了加速时间，降低了能耗和对驱动器的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电磁 弹射 启动 式掩模台 系统 | ||
【主权项】：
一种电磁弹射启动式掩模台系统，所述掩模台系统包含底座(1)、平衡块组件、掩模台动台和测量系统，所述平衡块组件包括平衡块(2)、掩模台YZ向电机线圈(5)和掩模台X向电机线圈(6)，平衡块(2)和底座(1)之间设有隔振系统；所述掩模台动台包括掩模台动台基底(12)、掩模台YZ向电机磁钢阵列(13)和掩模台X向电机磁钢阵列(14)，掩模台YZ向电机磁钢阵列(13)安装在掩模台动台基底(12)的下表面，掩模台X向电机磁钢阵列(14)安装在掩模台动台基底(12)的垂直于X方向的两个侧面上，其特征在于：所述电磁弹射启动式掩模台系统还包括弹射结构，所述弹射结构包括弹射结构定子磁钢阵列、弹射结构动子磁钢阵列(4)、弹射台(8)、弹射台电机动子(9)、弹射台电机定子(10)和导轨(11)，弹射台电机定子(10)和导轨(11)固定在平衡块(2)上，弹射台电机动子(9)固定在弹射台(8)的底部，所述弹射结构定子磁钢阵列包括第一弹射结构定子磁钢阵列(3)和第二弹射结构定子磁钢阵列(7)，第一弹射结构定子磁钢阵列(3)装在弹射台(8)和掩模台动台基底(12)相对的侧面上；第二弹射结构定子磁钢阵列(7)装在平衡块(2)上，并和第一弹射结构定子磁钢阵列(3)相对；在掩模台动台基底(12)中垂直于Y方向的两个侧面分别布置所述的弹射结构动子磁钢阵列(4)，并与第一弹射结构定子磁钢阵列(3)和第二弹射结构定子磁钢阵列(7)分别相对安装。
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