[发明专利]结型场效应晶体管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410307930.1 申请日: 2014-06-30
公开(公告)号: CN105226101B 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 韩广涛;孙贵鹏 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: H01L29/808 分类号: H01L29/808;H01L21/337
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 代理人: 李永华
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种结型场效应晶体管,包括衬底,衬底内的埋层,埋层上的第一阱区和第二阱区,第一阱区内的源极引出区、漏极引出区、第一栅极引出区,以及第二阱区内的第二栅极引出区;所述第一阱区的表面设有肖特基结面,所述肖特基结面位于所述第一栅极引出区和所述漏极引出区之间,并通过隔离结构与所述第一栅极引出区和漏极引出区进行隔离。本发明还涉及一种结型场效应晶体管的制造方法。本发明利用设于N阱上方的肖特基结面,在N阱的N型漂移区内形成空乏区,使得漂移区被耗尽,从而达到提高崩溃电压的目的。
搜索关键词: 场效应 晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
一种结型场效应晶体管,包括衬底,衬底内的埋层,埋层上的第一阱区和第二阱区,第一阱区内的源极引出区、漏极引出区、第一栅极引出区,以及第二阱区内的第二栅极引出区;所述衬底为第二掺杂类型,所述埋层包括第二掺杂类型埋层,所述第一阱区为第一掺杂类型,所述第二阱区为第二掺杂类型,所述第一栅极引出区和第二栅极引出区为第二掺杂类型,所述源极引出区和漏极引出区为第一掺杂类型,所述第一掺杂类型和第二掺杂类型的导电类型相反;其特征在于,所述第一阱区的表面设有肖特基结面,所述肖特基结面位于所述第一栅极引出区和所述漏极引出区之间,并通过隔离结构与所述第一栅极引出区和漏极引出区进行隔离。
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