[发明专利]一种离子注入设备用电极和离子注入设备在审
| 申请号： | 201410307986.7 | 申请日： | 2014-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104091746A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | 王志强;康峰;杨波;徐敬义 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/30 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供一种离子注入设备用电极和离子注入设备，涉及半导体技术领域，可增大电极的开口率，增加离子束的密度，从而提高离子注入的效率。所述离子注入设备用电极包括本体部分和透过部分；所述透过部分包括紧密规则排布的多个透过孔，且所述透过孔的形状包括圆形或者正多边形；其中，所述正多边形的边数至少为四条。用于离子注入设备的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 备用 电极 设备 | ||
【主权项】：
一种离子注入设备用电极，其特征在于，所述电极包括本体部分和透过部分；所述透过部分包括紧密规则排布的多个透过孔，且所述透过孔的形状包括圆形或者正多边形；其中，所述正多边形的边数至少为四条。
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