[发明专利]表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件有效

专利信息
申请号: 201410312033.X 申请日: 2014-07-02
公开(公告)号: CN104371581B 公开(公告)日: 2017-04-05
发明(设计)人: 小林弘幸;春日充;远藤佳子;林益史 申请(专利权)人: 藤森工业株式会社
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02;G02B1/10
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 崔香丹,洪燕
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜,以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2),并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中,剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成,所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂,通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移,能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
搜索关键词: 表面 保护膜 贴合 光学 部件
【主权项】:
一种表面保护膜,在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成有粘结剂层,并在所述粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜,其中,所述剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成,所述剥离剂层由以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的混合物形成,所述抗静电剂成分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移,从而将从作为被粘附体的光学用膜剥下所述粘结剂层时的表面电位减少为+0.7kV~-0.7kV,所述抗静电剂是具有阳离子和阴离子且熔点为30~80℃的离子性化合物,所述阴离子选自于由六氟化磷酸根PF6‑、硫氰酸根SCN‑、烷基苯磺酸根RC6H4SO3‑、高氯酸根ClO4‑、四氟化硼酸根BF4‑组成的阴离子组中。
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