[发明专利]光掩模坯料的制造方法及光掩模坯料有效

专利信息
申请号: 201410314410.3 申请日: 2014-07-03
公开(公告)号: CN104280998B 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 深谷创一;稻月判臣 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F1/32 分类号: G03F1/32;G03F1/54;G03F1/68;G03F1/80
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 高培培;车文
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光掩模坯料的制造方法及光掩模坯料,提高构成光掩模坯料的光学膜的特性的面内均一性。在腔室(50)内将在主面形成有光学膜(20)的石英基板(10)载置于基座(30)上。在灯罩(90)内收纳有闪光灯(60),闪光通过2个石英板(70a、70b)而向光学膜(20)照射。在2个石英板(70a、70b)中的石英板(70b)的表面形成有透射率调整区域(80),向光学膜(20)照射的光量在面内具有分布。如果对光学膜(20)照射闪光,则该光学膜(20)的光学特性依赖于接受到的照射能量而变化,因此,例如在成膜后的光学膜的特性在面内具有不均一分布的情况下,如果向光学膜照射具有消除这些的照射能量分布的闪光,则可以提高光学膜的特性的面内均一性。
搜索关键词: 光掩模 坯料 制造 方法
【主权项】:
1.一种光掩模坯料的制造方法,其特征在于,具备:在相对于曝光光透明的石英基板上形成光学膜的第一步骤;及向所述光学膜照射闪光灯光的第二步骤,闪光灯光向所述光学膜的照射经由形成有相对于该闪光灯光的透射率不同的区域的石英板而进行。
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