[发明专利]光掩模坯料的制造方法及光掩模坯料有效
申请号: | 201410314410.3 | 申请日: | 2014-07-03 |
公开(公告)号: | CN104280998B | 公开(公告)日: | 2019-10-08 |
发明(设计)人: | 深谷创一;稻月判臣 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32;G03F1/54;G03F1/68;G03F1/80 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高培培;车文 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种光掩模坯料的制造方法及光掩模坯料,提高构成光掩模坯料的光学膜的特性的面内均一性。在腔室(50)内将在主面形成有光学膜(20)的石英基板(10)载置于基座(30)上。在灯罩(90)内收纳有闪光灯(60),闪光通过2个石英板(70a、70b)而向光学膜(20)照射。在2个石英板(70a、70b)中的石英板(70b)的表面形成有透射率调整区域(80),向光学膜(20)照射的光量在面内具有分布。如果对光学膜(20)照射闪光,则该光学膜(20)的光学特性依赖于接受到的照射能量而变化,因此,例如在成膜后的光学膜的特性在面内具有不均一分布的情况下,如果向光学膜照射具有消除这些的照射能量分布的闪光,则可以提高光学膜的特性的面内均一性。 | ||
搜索关键词: | 光掩模 坯料 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光掩模坯料的制造方法,其特征在于,具备:在相对于曝光光透明的石英基板上形成光学膜的第一步骤;及向所述光学膜照射闪光灯光的第二步骤,闪光灯光向所述光学膜的照射经由形成有相对于该闪光灯光的透射率不同的区域的石英板而进行。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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