[发明专利]一种光学材料亚表面损伤层深度及形貌测量方法有效

专利信息
申请号: 201410315052.8 申请日: 2014-07-04
公开(公告)号: CN104061853A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 田爱玲;王春慧;田玉珺;王红军;朱学亮;刘丙才 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: G01B7/26 分类号: G01B7/26;G01B7/06;G01B11/24
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710032 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及光学精密测量技术领域,特别是一种亚表面损伤层厚度的测量方法,首先将样品装夹在匀速运动的装夹机构上,控制装夹机构使样品浸入HF酸溶液,直到样品完全没入溶液;迅速从溶液提出样品,并使用探针式轮廓仪测量腐蚀后的剖面,得到裂纹纵深方向和样品竖直运动方向的轮廓曲线;由曲线上取得数据开始趋向平稳变化的临界点或极点,及测量过程中记录下的起始点,求得这两点之间的高度差或投影在原有表面两点的高度差,即样品亚表面损伤层深度D;利用光学显微镜对腐蚀后的平面进行三维形貌观察。采用本发明方法简单、快捷、准确,可以同时测得亚表面层深度和三维形貌,测试精度高,成本低,直观性强,对测试设备要求低。
搜索关键词: 一种 光学材料 表面 损伤 深度 形貌 测量方法
【主权项】:
一种光学材料亚表面损伤层深度及形貌的测量方法,该方法通过控制样件在HF酸溶液中沿竖直方向缓慢匀速地运动,利用HF酸对样品进行连续腐蚀,使得样品不同位置层面的腐蚀程度连续变化,得到腐蚀后的剖切面;用探针式轮廓仪对腐蚀后的剖切面进行扫描,根据表面轮廓的变化趋势分析得到光学材料亚表面损伤层深度。
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