[发明专利]一种化学气相沉积设备

摘要

本发明涉及一种化学气相沉积设备及沉积方法。化学气相沉积设备包括反应腔室，反应腔室的底部设置有用于承载反应基板的基座，基座的四周还设置有活动挡板，当活动挡板移动到反应基板部分区域的上方时，遮挡部分区域，使得反应基板上未被遮挡的区域能够单独成膜。利用上述化学气相沉积设备能够对一个反应基板进行多次分区成膜。每次成膜操作时可以选择反应基板上一个分区为指定区域，然后将活动挡板移动到反应基板上方，对反应基板上除指定区域以外的区域进行遮挡，接着输入成膜所需的反应气体，使指定区域沉积相应的材料膜，最后排出本次反应气体及相关气态产物。

主权项

一种化学气相沉积设备，包括反应腔室，所述反应腔室的底部设置有用于承载反应基板的基座，其特征在于：所述基座的四周还设置有活动挡板，当所述活动挡板移动到所述反应基板部分区域的上方时，遮挡所述部分区域，使得所述反应基板上未被遮挡的区域能够单独成膜。