[发明专利]等离子体处理装置和等离子体分布调整方法有效
| 申请号： | 201410319167.4 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN104282520B | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木和男;齐藤均;山泽阳平;古屋敦城;内藤启 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/505 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够抑制由等离子体导致的金属窗的溅射削落并且能够进行等离子体的强度的分布调整的感应耦合型的等离子体处理装置。该对基板(G)进行等离子体处理的等离子体处理装置(100)包括：在等离子体生成区域内产生感应耦合等离子体的高频天线(11)；和配置在等离子体生成区域与高频天线(11)之间，与主体容器绝缘的金属窗(3)。金属窗(3)具有利用绝缘体相互绝缘的多个金属窗(30a～30d)，使这些金属窗(30a～30d)各自通过一个接地点接地。 | ||
| 搜索关键词： | 金属窗 等离子体处理装置 等离子体生成区域 等离子体 高频天线 绝缘 绝缘体 感应耦合等离子体 等离子体处理 等离子体分布 感应耦合型 分布调整 主体容器 接地 对基板 接地点 溅射 配置 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其用于对基板进行等离子体处理，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：用于在等离子体生成区域内产生感应耦合等离子体的高频天线；和配置在所述等离子体生成区域与所述高频天线之间，与主体容器绝缘的金属窗，其中，所述金属窗由利用绝缘体相互绝缘的多个金属窗构成，所述主体容器中，由所述多个金属窗构成的金属窗分隔配置所述高频天线的天线室和包含所述等离子体生成区域的处理室，为了降低所述金属窗的电位，所述多个金属窗分别通过一个接地点经由在金属部件之间夹有电阻元件的导电性部件接地。
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