[发明专利]一种低维氧化锌纳米材料及其低温等离子体制备方法有效
申请号: | 201410320048.0 | 申请日: | 2014-07-08 |
公开(公告)号: | CN104058446A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 程其进;陈文志;冯嘉;郑将辉;张凤燕;云大钦;吴洁阳 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C01G9/02 | 分类号: | C01G9/02;B82Y30/00 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭 |
地址: | 361000 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种低维氧化锌纳米材料及其低温等离子体制备方法。其制备方法包括如下步骤:(1)使用磁控溅射在硅片沉底上沉积一层锌薄膜。(2)将镀有锌薄膜的硅片放入低温等离子体增强水平管式炉沉积系统中,将其放在该系统后进行不同气体气氛比例条件下的等离子体放电处理,通过控制不同的处理温度以及放电电流可以得到不同形貌的氧化锌纳米材料。本发明制备方法制备出的氧化锌纳米材料,材料生长温度低,生长纳米材料质量好,工艺简单,成本低廉,且产品性能稳定,在光伏领域、气体探测器等应用领域有广阔前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化锌 纳米 材料 及其 低温 等离子体 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种低维氧化锌纳米材料,其特征在于包括锌薄膜和氧化锌纳米材料,所述氧化锌纳米材料包括纳米线和纳米片,能谱检测Zn:O=50.1:49.9,纳米线平均直径为20~100nm,平均长度为600~1500nm,纳米片平均厚度为15~80nm,纳米片平均面积为200~250000nm2。
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