[发明专利]低压等离子体消毒装置无效
| 申请号： | 201410320288.0 | 申请日： | 2014-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN104056290A | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 李立 | 申请（专利权）人： | 太仓华德石太工业设备有限公司 |
| 主分类号： | A61L2/14 | 分类号： | A61L2/14;A61L2/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州市太仓市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 低压等离子体消毒装置，它涉及医疗产品的消毒装置技术领域，主体的内部设置有反应舱，反应舱前侧设置有舱门，反应舱内部设置有气体入口，反应舱的上部设置有反应控制装置，反应舱的后侧设置有高频供电端口和能源提供装置，能源提供装置的一侧设置有压力控制装置，压力控制装置的下方设置有气体流量控制装置，气体流量控制装置通过气体通道与气体入口连接，压力控制装置、能源提供装置均与反应舱的内部连接。它设计科学合理，没有特殊的工作防护要求，采用气体反应，且化学反应可切断，一旦拔掉电源，整个反应过程就会自动停止，适用于所有材料的消毒，且能量消耗低。 | ||
| 搜索关键词： | 低压 等离子体 消毒 装置 | ||
【主权项】：
低压等离子体消毒装置，其特征在于它包含主体(1)、反应控制装置(2)、反应舱(3)、气体入口(4)、高频供电端口(5)、压力控制装置(6)、能源提供装置(7)和气体流量控制装置(8)，主体(1)的内部设置有反应舱(3)，反应舱(3)前侧设置有舱门，反应舱(3)内部设置有气体入口(4)，反应舱(3)的上部设置有反应控制装置(2)，反应舱(3)的后侧设置有高频供电端口(5)和能源提供装置(7)，能源提供装置(7)的一侧设置有压力控制装置(6)，压力控制装置(6)的下方设置有气体流量控制装置(8)，气体流量控制装置(8)通过气体通道与气体入口(4)连接，压力控制装置(6)、能源提供装置(7)均与反应舱(3)的内部连接。
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