[发明专利]一种多台阶微透镜制作方法以及光学元件台阶制作方法

摘要

本发明涉及一种多台阶微透镜制作方法以及光学元件台阶制作方法，该方法通过仅有的一次掩膜光刻形成微透镜最内层环带，然后通过负性光刻胶背面曝光显影用作掩膜层，再经腐蚀、背面曝光显影，刻蚀形成基底的图形，然后进行循环得到按次序从内到外逐次得到环带图形；还提出了一种制作光学元件台阶的制作方法。从根本上避免了传统套刻方法制作微透镜制作因掩模版对准、光刻、刻蚀等工序中带来的不可避免的误差，减少了制作过程中的工艺步骤，降低了难度，满足了微透镜制作过程中高精度要求，有效的保证和提高了微透镜衍射效益等光学性能。

主权项

一种多台阶微透镜制作方法，其特征在于，该方法的步骤如下：1)在基片(1)的正面制作遮挡层(2)；2)在遮挡层(2)上面涂覆正性光刻胶(3)，利用掩模版(4)进行正面曝光、显影和腐蚀；3)至少在被腐蚀的区域涂覆负性光刻胶(5)，负性光刻胶的厚度小于遮挡层(2)的厚度，从基片(1)背面曝光显影；4)从遮挡层的边缘侧向腐蚀遮挡层(2)，腐蚀宽度为对应的台阶宽度；5)去除正性光刻胶(3)；6)按照设计厚度刻蚀基片(1)，刻蚀深度为对应台阶深度，去除负性光刻胶(5)；7)根据需要的台阶个数，至少在遮挡层(2)上面涂覆正性光刻胶(3)，从基片(1)背面曝光显影和腐蚀，然后重复步骤3)至6)，直至完成所有的台阶。