[发明专利]一种通过二次硫化调节铜锌锡硫薄膜元素配比的制备方法有效
申请号: | 201410326643.5 | 申请日: | 2014-09-03 |
公开(公告)号: | CN104282804B | 公开(公告)日: | 2017-07-11 |
发明(设计)人: | 孟磊;徐娜;陈哲 | 申请(专利权)人: | 吉林化工学院 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 132022 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种通过二次硫化热处理改变化学配比的铜锌锡硫(Cu2ZnSnS4)薄膜的制备方法。其特征是采用铜锌锡硫单一靶材磁控溅射铜锌锡硫预制膜,对预制膜进行二次硫化热处理,得到贫铜富锌得优质铜锌锡硫薄膜。对应的带隙由1.42eV变为1.52eV。本方法工艺简单,成本低廉,操作方便,可重复性强,有助于铜锌锡硫吸收层的叠层太阳电池的产业化发展。 | ||
搜索关键词: | 一种 通过 二次 硫化 调节 铜锌锡硫 薄膜 元素 配比 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种通过二次硫化调节铜锌锡硫薄膜元素配比的制备方法,其特征在于采用铜锌锡硫单一靶材进行磁控溅射,其中磁控溅射条件为衬底温度500℃,溅射功率为60W,通入氩气前真空度为7×10‑4Pa;对溅射后的薄膜进行二次硫化热处理,将获得贫铜富锌的铜锌锡硫薄膜,其中所述的二次硫化热处理过程为先进行低温缓慢硫化热处理,再进行第二次高温快速硫化热处理,具体为快速升温至250℃,升温速率为5℃/s,再将温度缓慢升至380℃,升温速率为5℃/min,之后再快速将温度升至550℃,升温速率为5℃/s,保温10min,自然冷却。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的