[发明专利]一种用于光刻设备的曝光装置与曝光方法有效
| 申请号： | 201410329707.7 | 申请日： | 2014-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN105301912B | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 许琦欣;李玉龙;王天寅 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的曝光装置，包括激光器，用于提供一曝光光束；光束整形单元，用于将该曝光光束整形；数字微镜阵列（DMD），用于接收该整形后的曝光光束并反射该曝光光束以形成一调制图形；物镜，用于将该调制图形成像至一硅片表面；运动台，该运动台用于承载该硅片；同步控制单元，同步控制该激光器、DMD和运动台。本发明同时提供一种用于光刻设备的曝光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 设备 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的曝光装置，其特征在于，包括：激光器，用于提供一曝光光束；光束整形单元，用于将所述曝光光束整形；数字微镜阵列(DMD)，用于接收所述整形后的曝光光束并反射所述曝光光束以形成一调制图形；物镜，用于将所述调制图形成像至一硅片表面；运动台，所述运动台用于承载所述硅片；同步控制单元，同步控制所述激光器、DMD和运动台；点能量传感器，位于物镜的最佳焦面位置，所述点能量传感器的探测面应大于视场面积。
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