[发明专利]外延GaN的并联式PIN结构β辐照电池及其制备方法无效
申请号: | 201410330952.X | 申请日: | 2014-07-13 |
公开(公告)号: | CN104103333A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 郭辉;翟华星;宋庆文;张艺蒙;张玉明 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G21H1/06 | 分类号: | G21H1/06 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种外延GaN的并联式PIN结构β辐照电池及其制备方法,主要解决当前核电池能量转化率及输出功率低的问题。其包括:并联上、下两个PIN结和β放射源;下PIN结自下而上依次为,N型欧姆接触电极、N型高掺杂4H-SiC衬底、N型低掺杂SiC外延层、P型高掺杂GaN外延层和P型欧姆接触电极,上PIN结自上而下的结构分布与下PIN结自下而上的结构分布相同;每个PIN结中有多个沟槽,每个沟槽内均放置有α放射源;两个PIN结通过P型欧姆接触电极相接触,上下沟槽镜面对称且相互贯通。本发明具有放射源与半导体接触面积大,核原料利用率及能量收集率高,电池输出电压大的优点,可为微小电路持久供电等供电。 | ||
搜索关键词: | 外延 gan 并联 pin 结构 辐照 电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种外延GaN的并联式PIN结构β辐照电池,包括:PIN单元和β放射源,其特征在于: 所述PIN单元,采用上、下两个PIN结并联构成;下PIN结自下而上依次为,N型欧姆接触电极(5)、N型高掺杂4H‑SiC衬底(1)、掺杂浓度为1x1015~3x1015cm‑3的N型低掺杂SiC外延层(2)、掺杂浓度为1x1019~5.5x1019cm‑3的P型高掺杂GaN外延层(3)和P型欧姆接触电极(4),上PIN结自下而上依次为,P型欧姆接触电极(4)、掺杂浓度为1x1019~5.5x1019cm‑3的P型高掺杂GaN外延层(3)、掺杂浓度为1x1015~3x1015cm‑3的N型低掺杂SiC外延层(2)、N型高掺杂4H‑SiC衬底(1)和N型欧姆接触电极(5); 所述两个PIN结其P型欧姆接触电极(4)的一面接触在一起,上下PIN结中沟槽形成镜面对称,相互贯通的一体结构; 每个PIN结中都设有n个沟槽(6),其中n≥2,每个沟槽(6)内均放置有β放射源(7),以产生放射高能β粒子。
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