[发明专利]用于制造注射成型件的方法和设备有效
| 申请号： | 201410331919.9 | 申请日： | 2014-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN104149264B | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | J·吉绍夫;C·迈尔 | 申请（专利权）人： | 恩格尔奥地利有限公司 |
| 主分类号： | B29C45/14 | 分类号： | B29C45/14;B29C45/72;B29L11/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 邓斐 |
| 地址： | 奥地利施*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造光学元件的方法，其中在至少两个注射工作站(2)上借助至少两个注射过程来浇注注射物质，其中，在所述至少两个注射过程之一中制造的预注射成型坯(4)在所述至少两个注射过程之间在一个冷却工作站(5)中得到冷却。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 注射 成型 方法 设备 | ||
【主权项】：
用于制造光学元件(10)的方法，其中在至少两个注射工作站(2)上借助至少两个注射过程来浇注注射物质，其特征在于：在所述至少两个注射过程之一中制造的预注射成型坯(4)在所述至少两个注射过程之间在一个与所述至少两个注射工作站(2)分开的冷却工作站(5)中得到冷却，并且，－在预注射成型坯(4)冷却期间，制造至少一个另外的预注射成型坯(4)，和/或，－在预注射成形坯(4)冷却期间，制成至少一个光学元件(10)，其中，在所述至少两个注射过程中注射光学元件(10)的至少两个层(11、4)，其中，为了制造层数为2n+1的光学元件(10)，在所述至少两个注射过程的第一注射过程中注射第一层(4)，并且在所述至少两个注射过程的n个另外的或2n个另外的注射过程中喷射2n个另外的层(11)，其中，以层厚(s2，s3)喷射2n个需在另外的注射过程中喷射的层(11)，所述层厚小于光学元件(10)的总厚度(s)的1/2(n+1)倍，或预注射成型坯(4)的层厚(s1)大于光学元件(10)的总厚度(s)的1/(n+1)倍。
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