[发明专利]曝光装置、器件制造方法有效
| 申请号： | 201410333238.6 | 申请日： | 2004-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN104122760B | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，具备：投影光学系统，将像透过液体投影；第一吸引口，连通于吸引系统；可动构件，支承基板并移动；通过所述投影光学系统，将透过液体所投影的像作为曝光用光照射于所述基板以使该基板曝光，其特征在于：所述曝光装置进一步具备：第1流量计，测量从该第1吸引口回收的液体的量，所述第一吸引口设于所述可动构件。
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