[发明专利]一种基于SRC的二次人脸识别方法在审

专利信息
申请号: 201410333553.9 申请日: 2014-07-14
公开(公告)号: CN104102903A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 章坚武;俞子鹏 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06K9/46
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于SRC的二次人脸识别方法,它利用SRC算法对人脸图像先进行第一次识别。通过分析识别结果的差异,判断是否需要进行二次识别。如果进行二次识别,利用Harris角点检测法和Gabor滤波器截取人脸细节特征,如眼睛、鼻子、嘴巴等特征,并组成新的人脸样本库。最后再次利用SRC算法对新的人脸样本库进行二次识别。本发明通过线性判别分析法对样本集进行降维,减小算法时间复杂度;然后又利用自商图算法,减小了光照变化对识别过程的影响;同时,结合Harris角点检测和Gabor滤波器,充分提取了人脸细节,减小了拍摄姿势、表情变化带来的影响,利用二次识别很好地提高了算法的精度。
搜索关键词: 一种 基于 src 二次 识别 方法
【主权项】:
一种基于SRC的二次人脸识别方法,其特征在于,该方法具体包括如下步骤:步骤一、将所有人脸样本图像组成训练样本集A=[A1,A2,…,Ak],其中A1表示第1个人的所有样本人脸,A2表示第2个人的所有样本人脸,Ak表示第k个人的所有样本人脸,k表示人脸样本人数总量;然后用线性判别分析法对训练样本集A进行降维处理得到新的样本集D,减小算法时间复杂度;再对测试图y进行稀疏表示,即:y=D·x      (1)其中x表示测试图的稀疏解;通过L1范数最小化求解式(1),得到稀疏解为<mrow><mover><mi>x</mi><mo>^</mo></mover><mo>=</mo><mi>min</mi><msub><mrow><mo>|</mo><mo>|</mo><mi>x</mi><mo>|</mo><mo>|</mo></mrow><mn>1</mn></msub><mo>;</mo></mrow>步骤二、对稀疏解进行残差计算,即:γi=||y‑D·δi(x)||2      (2)其中γi表示第i类人的残差值,δi(x)表示第i类人的稀疏解;然后将γi与残差阈值T进行比较:如果γi大于T,不进行二次识别,并输出识别结果Identity(y)=min(γi),从而确定测试图类型;如果γi小于T,进行二次识别;步骤三、若需要进行二次识别,则提取第一次识别中残差较小的前5个人,然后利用自商图对这5个人脸样本进行消光照,并结合Harris角点检测和Gabor滤波器提取样本细节特征,细节特征为包括人眼、鼻子和嘴巴;最后将这5个人脸细节组成新的人脸样本库A'=[A'1,A'2,…A'5],其中A'1表示第1个人的所有细节图,A'2表示第2个人的所有细节图,A'5表示第5个人的所有细节图;由于Gabor点和Harris特征点个数不确定,导致人脸细节图数量不确定,即该5个人的细节图数量可能是不相同的;对测试图y进行人脸细节特征提取,得到新的测试图库y'=[y′1,y'2,…y'p],其中y′1表示测试图的第1张细节图,y'2表示测试图的第2张细节图,y'p表示测试图的第p张细节图,p表示测试图的细节图数量;步骤四、求解测试图y'的稀疏解x':y'=A'·x'并进行残差计算并通过最小残差确定测试图类型。
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