[发明专利]一种含吩噻嗪基团的荧光共轭聚合物及其合成方法与应用有效
| 申请号： | 201410336701.2 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN104151533A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 彭汉;袁雪 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;C09K11/06 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 蔡茂略 |
| 地址： | 511458 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于共轭聚合物领域，公开了一种含吩噻嗪基团的荧光共轭聚合物及其合成方法与应用。所述合成方法是先合成N-烷基-3,6-双(乙炔基)吩噻嗪单体，然后将N-烷基-3,6-双(乙炔基)吩噻嗪单体与N-辛基-3,6-双(乙炔基)咔唑单体或4,7-二乙炔基-2,1,3-苯并噻噁唑单体于邻二氯苯中完全溶解，在含有CuCl和TMEDA的催化体系中搅拌反应；反应结束后在甲醇和浓盐酸的混合溶液中沉淀过滤，真空干燥，得到含吩噻嗪基团的荧光共轭聚合物。本发明通过在吩噻嗪基团上引入烷基链，改善聚合物的溶解性；通过引入具有不同推、拉电子效应的基团，改变结构，提供一种具有优良的光电性能、溶解性和热稳定性的共轭聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含吩噻嗪 基团 荧光 共轭 聚合物 及其 合成 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种含吩噻嗪基团的荧光共轭聚合物，其特征在于结构式为：其中，x为2～100的自然数，y为2～200的自然数；R1为碳数1～18的烷基；R2为N‑辛基咔唑或苯并噻噁唑。
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