[发明专利]基板制造方法及基板制造装置有效
申请号: | 201410338718.1 | 申请日: | 2014-07-16 |
公开(公告)号: | CN104345549B | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 冈本裕司 | 申请(专利权)人: | 住友重机械工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 温旭;郝传鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种基板制造方法及基板制造装置,所述基板制造方法是在支承基板上形成用于形成厚金属图案的掩膜图案的方法。准备应形成第1线状图案及比第1线状图案粗的第2线状图案的支承基板。在支承基板的应形成第1线状图案及第2线状图案的区域,多次重复进行使薄膜材料液滴化后着落并使着落的薄膜材料固化的步骤。用于形成第1线状图案的步骤的重复次数多于用于形成第2线状图案的步骤的重复次数。 | ||
搜索关键词: | 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基板制造方法,其中,具有:准备应形成第1线状图案及比所述第1线状图案粗的第2线状图案的支承基板的工序;及在所述支承基板的应形成所述第1线状图案及所述第2线状图案的区域,多次重复进行使薄膜材料液滴化后着落并使着落的所述薄膜材料固化的步骤的工序,为了使所述第1线状图案和所述第2线状图案的高度相同,用于形成所述第1线状图案的所述步骤的重复次数多于用于形成所述第2线状图案的所述步骤的重复次数;其中,以n表示用于形成所述第1线状图案的所述步骤的重复次数时,如下设定所述重复次数n:将所述步骤的重复次数设为n‑1次而形成的所述第1线状图案的高度低于所述第2线状图案的高度,并且将所述步骤的重复次数设为n+1次而形成的所述第1线状图案的高度高于所述第2线状图案的高度。
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