[发明专利]一种槽式机台清洗装置在审
| 申请号： | 201410340170.4 | 申请日： | 2014-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN104078397A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 宋振伟;徐友峰;陈晋 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种槽式机台清洗装置，包括：清洗槽，通过隔离板间隔形成独立的第一清洗槽和第二清洗槽；进液管，包括主进液管，以及与主进液管连通，并分别与第一清洗槽连接的第一分支进液管，与第二清洗槽连接的第二分支进液管；出液管，进一步包括主出液管，以及与主出液管连通，并分别与第一清洗槽连接的第一分支出液管，与第二清洗槽连接的第二分支出液管。本发明不仅可独立的对不同工艺、不同器件产品进行清洗，避免交叉污染，而且保证机台产能，改善清洗效果，提高器件良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 机台 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种槽式机台清洗装置，其特征在于，所述槽式机台清洗装置，包括：清洗槽，通过隔离板间隔形成独立的第一清洗槽和第二清洗槽；进液管，进一步包括主进液管，以及与所述主进液管连通，并分别与所述第一清洗槽连接的第一分支进液管，与所述第二清洗槽连接的第二分支进液管；出液管，进一步包括主出液管，以及与所述主出液管连通，并分别与所述第一清洗槽连接的第一分支出液管，与所述第二清洗槽连接的第二分支出液管。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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