[发明专利]高透光耐刮伤聚碳酸酯薄膜制备方法

摘要

本发明涉及光学薄膜领域，尤其涉及一种高透光聚碳酸酯薄膜。一种高透光耐刮伤聚碳酸酯薄膜制备方法，包括以下步骤：将聚碳酸酯粉体溶解在溶剂内；以甲苯为溶剂将纳米二氧化硅粉体分散在溶剂内，分散时加入硅烷偶联剂，投入高速混料机中充分均匀混合搅拌，在混合搅拌的同时加入热稳定剂、抗滴剂、抗氧剂；溶液蒸发脱气后，经喂料器投入到双螺杆挤出机中熔融挤出，挤出物经延压成为薄膜。本发明将纳米二氧化硅粉体和聚碳酸酯粉体同时溶解于溶剂内，再将溶剂互相混合溶剂，这样既能保证纳米二氧化硅粉体均匀的分散，又能避免团聚现象的发生，制备出的聚碳酸酯薄膜初始硬度即可达到3HB，同时透光率高达88%，可以作为各种光学薄膜的基材使用。

主权项

一种高透光耐刮伤聚碳酸酯薄膜制备方法，其特征是，包括以下步骤：S1：将聚碳酸酯粉体溶解在溶剂内；边溶解边搅拌直到所有聚碳酸酯粉体完全溶解，得到聚碳酸酯溶液；S2：以甲苯为溶剂将纳米二氧化硅粉体分散在溶剂内，分散时加入硅烷偶联剂；得到纳米二氧化硅分散液；S3：将聚碳酸酯溶液和纳米二氧化硅分散液投入高速混料机中充分均匀混合搅拌，在混合搅拌的同时加入热稳定剂、抗滴剂、抗氧剂；S4：熔融混合，将高速混料机混合好的溶液蒸发脱气后，经喂料器投入到双螺杆挤出机中熔融挤出，在挤出的同时添加碱式硫酸镁晶须，挤出机各区的温度控制在220℃～250℃之间；S5：双螺杆挤出机的挤出物经延压成为薄膜；相对于100重量份的聚碳酸酯粉体，纳米二氧化硅粉体为1～5重量份，碱式硫酸镁晶须为10～15重量份，硅烷偶联剂2～10重量份，热稳定剂为0. 1～1重量份，抗氧剂为0.1～1重量份，抗滴剂为0.1～1重量份。