[发明专利]化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 201410341023.9 | 申请日： | 2014-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN104149023A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 朱顺全;梅黎黎;李云峰 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎龙化学股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24;B24B37/26 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 涂洁 |
| 地址： | 430057 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种化学机械抛光垫，解决了现有抛光垫容易擦伤，抛光效率低的问题。技术方案至少包括有抛光层，所述抛光层的抛光面上开有多个孔，以所述抛光面的中心为圆心，所述多个孔排列成多排不同径长的同心的圆环；并且，以抛光面的中心为端点，均匀散射出多条延至抛光面边缘的沟槽；所述抛光面的表面粗糙度处于15μm以下。本发明抛光垫结构简单、能有效提高抛光去除效率且能抑制擦伤产生、使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光垫，至少包括有抛光层，所述抛光层的抛光面上开有多个孔，其特征在于，以所述抛光面的中心为圆心，所述多个孔排列成多排不同径长的同心的圆环；并且，以抛光面的中心为端点，均匀散射出多条延至抛光面边缘的沟槽；所述抛光面的表面粗糙度处于15μm以下。
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