[发明专利]一种氧化硅抛光磨料的加工工艺

摘要

本发明公开了一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，包括准备原料、过筛子、搅拌、球磨机中进行深度粉碎、滚动成型和出料后二次过筛等四个步骤，最终得到氧化硅抛光磨料。本发明采用球磨机对物料进行深度粉碎和滚动成型，并经过筛子得到粒径均匀的氧化硅抛光磨料，得到的氧化硅抛光磨料在常温下含水量为13.5％，比现有技术的烧结工艺得到的抛光磨料具有明显的优异性能。本发明可以大大提高抛光磨料的硬度、尺寸稳定性、致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和耐磨性能，克服了传统烧结工艺得到的抛光磨料脆性高的缺点。

主权项

一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：按重量百分比分别准备以下原料：氧化硅30～40％、钾长石20～30％、棕刚玉20～30％、高岭土10～20％、石英1～5％、纳米陶瓷粉透明液体5～15％；各组分重量百分比总和为100％，其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％；步骤二：将氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英各原料过筛子，筛子为400～600目，并加入纳米陶瓷粉透明液体搅拌均匀，得到糊状混合料；步骤三：将步骤二得到的糊状混合料加入球磨机中，进行深度粉碎和滚动成型，球磨机的转速为45r/min，滚动时间为4～5h，边滚动边向球磨机内喷水，每隔15min补料，补料次数为2～10次，每次补料为氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英的混合粉料，补料的重量为糊状混合料的3～8％；步骤四：出料后二次过筛，筛子为800～1000目，即得到氧化硅抛光磨料。