[发明专利]辅助光刻区机台切换光罩的方法、装置及机台有效
| 申请号： | 201410347657.5 | 申请日： | 2014-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN105334700B | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 方利;黄亮;张宛铮 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 骆苏华,吴敏 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种辅助光刻区机台切换光罩的方法、装置及机台。所述方法，包括对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽；监测所述晶圆的运行轨迹；若所述晶圆的曝光需切换光罩，则在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。本发明能够在光刻区辅助切换光罩，控制切换时长，提高机台产量。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助 光刻 机台 切换 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种辅助光刻区机台切换光罩的方法，其特征在于，包括：对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽；监测所述晶圆的运行轨迹；若所述晶圆的曝光需切换光罩，则在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。
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