[发明专利]液相扩散单晶生长加样法以及专用加样管有效
申请号: | 201410347773.7 | 申请日: | 2014-07-21 |
公开(公告)号: | CN104152980A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 魏哲宇;魏永革 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C30B7/14 | 分类号: | C30B7/14 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅;王春霞 |
地址: | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了液相扩散单晶生长加样法以及专用加样管。它包括样品液加样槽(1)、沉淀剂加样槽(2)和匀速管(3);所述样品液加样槽(1)的底部连通一细管(4);所述沉淀剂加样槽(2)套设于所述细管(4)上,且所述沉淀剂加样槽(2)的底部与所述细管(4)之间设有空腔;所述匀速管(3)套设于所述细管(4)上,且位于所述沉淀剂加样槽(2)的下部;所述匀速管(3)的顶部与所述细管(4)为密封配合。本发明进一步提供了利用上述液相扩散单晶生长加样管的加样方法。本发明提供的加样管和加样方法能够使沉淀剂沿试管壁自动均匀且匀速地流入试管底部,操作简单,人为干扰少,分层效果好,而且自动化程度高,可以极大地降低操作人员的劳动强度,实现多管批量操作,从而提高培养单晶的工作效率。 | ||
搜索关键词: | 扩散 生长 加样法 以及 专用 加样管 | ||
【主权项】:
一种液相扩散单晶生长加样管,其特征在于:它包括样品液加样槽、沉淀剂加样槽和匀速管;所述样品液加样槽的底部连通一细管;所述沉淀剂加样槽套设于所述细管上,且所述沉淀剂加样槽的底部与所述细管之间设有空腔;所述匀速管套设于所述细管上,且位于所述沉淀剂加样槽的下部;所述匀速管的顶部与所述细管为密封配合。
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