[发明专利]释放负离子织物涂料印花技术在审
申请号: | 201410348598.3 | 申请日: | 2014-07-22 |
公开(公告)号: | CN104153215A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 李青山 | 申请(专利权)人: | 北京森源华诚科技发展有限公司 |
主分类号: | D06P1/673 | 分类号: | D06P1/673 |
代理公司: | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人: | 韩登营 |
地址: | 100000 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种释放负离子织物涂料印花技术,所述织物涂料印花技术在配方中加入了微纳米级的清水石系列负离子添加剂及各类助剂,然后按照一般涂料印花工艺进行印花,可以应用于纯棉、涤棉、涤丝绸、仿丝绸等织物。印花工艺环保、节能,对织物的限制小,工艺简单,印制的花型轮廓清晰、层次分明、富有立体感。不仅可以不影响纤维本身印花牢度和手感,而且可赋予材料的功能性,使其可以释放对人体有益的空气负离子。 | ||
搜索关键词: | 释放 负离子 织物 涂料 印花 技术 | ||
【主权项】:
释放负离子织物及其涂料印花技术的特征在于如下配方:粘合剂:10‑15%,颜料:0‑3%,清水石系列负离子添加剂:0.1‑10%,尿素:0‑3%,柔软剂:0‑5%,增稠剂:0‑4%。然后按照一般涂料印花工艺进行印花,制成的纤维织物可释放空气负离子。
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