[发明专利]基于Gabor特征的人脸素描合成方法及系统在审
| 申请号： | 201410349998.6 | 申请日： | 2014-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN104077742A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 胡瑞敏;关健;江俊君;韩镇;董小慧 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G06T3/40 | 分类号： | G06T3/40 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 胡艳 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于GABOR特征的人脸素描合成方法及系统，包括步骤：将待合成人脸照片、人脸照片样本以及人脸素描样本划分为相互重叠的像素块；提取各像素块的Gabor特征，基于像素块Gabor特征的协方差矩阵获得Stein散度矩阵；基于Stein散度矩阵及各人脸照片样本像素块的重建系数，获得最优权值；采用最优权值将各人脸素描样本对应位置的像素块加权合成，获得合成人脸素描像素块；融合合成人脸素描像素块获得待合成人脸照片对应的合成人脸素描。本发明可合成更高质量的人脸素描，可应用于刑事侦查中。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 gabor 特征 素描 合成 方法 系统 | ||
【主权项】：
基于Gabor特征的人脸素描合成方法，其特征在于，包括步骤：步骤1，将待合成人脸照片、人脸照片训练集中人脸照片样本以及人脸素描训练集中人脸素描样本划分为相互重叠的像素块，待合成人脸照片、人脸照片样本及人脸素描样本大小相同，且人脸照片样本和人脸素描样本一一对应；步骤2，提取各像素块的Gabor特征，基于像素块Gabor特征的协方差矩阵获得第一Stein散度矩阵和第二Stein散度矩阵，其中，第一Stein散度矩阵为待合成人脸照片像素块和各人脸照片样本像素块间的Stein散度矩阵，第二Stein散度矩阵为不同人脸照片样本像素块间的Stein散度矩阵；步骤3，基于第一Stein散度矩阵、第二Stein散度矩阵及各人脸照片样本像素块的重建系数，采用正则最小二乘法获得第二Stein散度矩阵对第一Stein散度矩阵进行线性组合的最优权值；步骤4，采用最优权值将各人脸素描样本对应位置的像素块加权合成，获得该对应位置像素块的合成人脸素描像素块；步骤5，将合成人脸素描像素块按其在人脸上位置进行融合，获得待合成人脸照片对应的合成人脸素描。
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