[发明专利]涂有亚层和耐温多层抗反射涂层的光学制品,其制造方法有效
申请号: | 201410352507.3 | 申请日: | 2007-06-26 |
公开(公告)号: | CN104076413B | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | O·贝纳特;J-L·希尔简;M·托马斯 | 申请(专利权)人: | 埃西勒国际通用光学公司 |
主分类号: | G02B1/116 | 分类号: | G02B1/116 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 李颖,林柏楠 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有抗反射性的光学制品,其包括基材和从基材开始的下列层包括基于SiO2的层的亚层,所述基于SiO2的层具有大于或等于75nm的厚度且不含Al2O3;以及多层抗反射涂层,包括由至少一个高折射率层和至少一个低折射率层构成的叠层,其中抗反射涂层的所有低折射率层都包含SiO2和Al2O3的混合物,抗反射涂层的高折射率层不是如下所述的其在可见光区域吸收的层包含化学计量不足的钛氧化物且使得光学制品的可见光相对透光系数Tv相对于没有任何所述在可见光区域吸收的层的相同制品降低至少10%。 | ||
搜索关键词: | 涂有亚层 耐温 多层 反射 涂层 光学 制品 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具有抗反射性的光学制品,其包括基材和从基材开始的下列层:-包括基于SiO2的层的亚层,所述基于SiO2的层具有大于或等于75nm的厚度且不含Al2O3;以及-多层抗反射涂层,包括由至少一个高折射率层和至少一个低折射率层构成的叠层,其中抗反射涂层的所有低折射率层都包含SiO2和Al2O3的混合物,抗反射涂层的高折射率层不是如下所述的在可见光区域吸收的层:包含化学计量不足的钛氧化物且使得光学制品的可见光相对透光系数Tv相对于没有任何所述在可见光区域吸收的层的相同制品降低至少10%,其中化学计量不足的钛氧化物是式TiOx的化合物,其中x<2,所述光学制品从基材开始包括:厚度大于或等于75nm的SiO2亚层,厚度为10-40nm的ZrO2层,厚度为10-40nm的SiO2/Al2O3层,厚度为40-150nm的TiO2层,厚度为10-30nm的ZrO2层,厚度为0.1-30nm的导电层,以及厚度为40-150nm的SiO2/Al2O3层。
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