[发明专利]一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法无效

专利信息
申请号: 201410356776.7 申请日: 2014-07-24
公开(公告)号: CN104133346A 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 陈昌龙;邸成良;唐小萍;胡松;马平;刘俊伯;马驰飞;何渝 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 孟卜娟;卢纪
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法,由光源(1)经准直透镜成为平行光束,通过投影光阑(3)成为一道狭缝。狭缝经成像镜组(4)成像于硅片(6)表面。从硅片表面反射的光束经成像镜组(10、11)成像在线阵CCD(13)上。工件台(7)通过真空吸盘(8)载着硅片(6)在Z方向上下移动,硅片表面ΔZ的位移将使狭缝像在线阵CCD(13)上产生ΔX的位移。线阵CCD通过Cameralink传输线(14)将图像信息传输到图像采集控制卡(15)。图像处理采集卡(15)对图像信息进行亚像素处理,计算出离焦量,控制工件台运动,并实时检测离焦量,直到离焦量满足精度要求。图像采集控制卡(15)通过RS232串口(16)同计算机(17)通信,可以进行初始设置和调试。
搜索关键词: 一种 适用于 投影 光刻 实时 调焦 方法
【主权项】:
一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法,其特征在于步骤如下:步骤(1)、光源(1)经准直透镜成为平行光束,经反射镜(2)照射到投影光阑(3),平行光束经投影光阑(3)后成为一道狭缝光束,经成像物镜组(4)和反射镜(5)以较大的入射角(90‑γ)成像在硅片表面(6),从硅片表面(6)反射的狭缝光束,经反射镜(9),通过成像镜组(10、11),再经过反射镜(12),成像在线阵CCD(13)上;步骤(2)、线阵CCD(13)通过Cameralink传输线(14)将图像信息传给图像采集控制卡(15),图像采集控制卡对图像进行亚像素处理,得到狭缝像的中心位置,根据预设的最佳焦面位置计算出离焦量;步骤(3)、图像采集控制卡(15)根据离焦量,控制工件台(7)Z方向电机运转方向和速度,真空吸盘(8)吸住硅片(6),由工件台(7)载着做垂直Z方向的移动,在Z方向上产生ΔZ的位移将使狭缝光束的像在线阵CCD(13)上产生ΔX的位移,从而改变离焦量,直到离焦量满足精度要求。
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