[发明专利]气相外延在线清洗装置及方法无效
| 申请号： | 201410360667.2 | 申请日： | 2014-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN104112662A | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 段瑞飞;霍自强;羊建坤;魏同波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | H01L21/306 | 分类号： | H01L21/306;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气相外延(VPE)在线清洗装置，包括：反应腔室，反应气体入口，清洗气体入口，排气口，衬底，衬底托，旋转装置，还包括在线清洗装置，用以去除残留在反应腔室内壁及各部件上造成污染的寄生氮化物。本发明针对VPE生长氮化物存在较强的寄生反应问题，添加额外的清洗装置，主要指在VPE设备中增加HCl或者氯气等刻蚀性气体供应，发展出刻蚀性气体清洗寄生GaN等氮化物膜的方法，实现VPE设备内部由于寄生反应在管壁、进出气口等处寄生产物的清理，保证设备的稳定性、重复性和长期使用性，从而降低维护成本，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 在线 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种气相外延在线清洗装置，包括：反应腔室，反应气体入口，清洗气体入口，排气口，衬底，衬底托，旋转装置，其特征在于，还包括在线清洗装置，用以去除残留在反应腔室内壁及各部件上造成污染的寄生氮化物。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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