[发明专利]一种铌基合金上的Mo-Si-B涂层及其制备方法无效
申请号: | 201410360800.4 | 申请日: | 2014-07-25 |
公开(公告)号: | CN104120426A | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
发明(设计)人: | 周春根;王皖;吴晶艳 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C4/08;C23C8/72 |
代理公司: | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人: | 李有浩 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种铌基合金上的Mo-Si-B涂层及其制备方法,该方法首先采用大气等离子喷涂工艺在Nb基合金上制备出Mo层,然后采用包埋渗工艺将Si-B渗入Mo层中,从而制得复合的Mo-Si-B涂层。Mo在包埋渗过程中与Si-B反应生成MoSi2+弥散的B。本发明的Mo-Si-B涂层厚度为100~140微米,涂层结构为与铌基合金基体接触的是Mo层,以及分布在Mo层外的MoSi2+B弥散相层。涂层在1250℃高温氧化时能够形成连续、致密、粘结性好的硼硅酸盐氧化物层,提高了基体的抗高温氧化性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 合金 mo si 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铌基合金上的Mo‑Si‑B涂层,其特征在于:所述Mo‑Si‑B涂层是指与铌基合金基体接触的Mo层,以及分布在Mo层外的MoSi2+B弥散相层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410360800.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:控制应用执行方法及装置
- 下一篇:一种治疗骨折、骨裂的药物组合物
- 同类专利
- 专利分类