[发明专利]辐射热流测量装置

摘要

本发明公开了一种真空环境下的辐射热流测量装置，包括腔壁温度均匀、恒定的等温腔体，等温腔体上端设置有若干热绝缘支撑柱以支撑金属箔片，等温腔体的底部和上部设置有薄膜加热器和测温用传感器，等温腔体侧面对称位置有四个安装孔；金属箔片上下表面的至少一侧涂覆有绝缘层，绝缘层上方通过溅射法交错设置铜条带和镍条带，铜条带平行布置，镍条带平行布置，两者之间在端部形成接点一和接点二，在铜条带和镍条带上涂覆有绝缘层。本发明的测量装置，实现了真空环境下的辐射热流的准确和快速测量，提高了航天器真空热试验外热流的准确测量和快速测量能力，降低了试验误差，提高了试验精度。

主权项

一种真空环境下的辐射热流测量装置，包括腔壁温度均匀、恒定的等温腔体，等温腔体上端设置有若干热绝缘支撑柱以支撑金属箔片，等温腔体的底部和上部设置有薄膜加热器和测温用传感器，等温腔体侧面对称位置有四个安装孔；金属箔片上下表面的至少一侧涂覆有绝缘层，绝缘层上方通过溅射法交错设置铜条带和镍条带，铜条带平行布置，镍条带平行布置，两者之间在端部形成接点一和接点二，在铜条带和镍条带上涂覆有绝缘层，金属箔片的上下表面分别涂覆发射率不同的两种材料，两种材料直接涂敷在绝缘层上或者箔片上，发射率不同的两种材料在绝缘层或者箔片上交错形成发射率不同的涂层一和涂层二，涂层一和涂层二之间形成结合界面，分别覆盖铜镍接点一和接点二的对应区域且为对称线对称分布或沿径向均匀分布，金属箔片上表面的涂层一、涂层二分别对应于金属箔片下表面的涂层二和涂层一，其中，在接点一或者接点二的始端和终端分别连接有引线。