[发明专利]流化床反应器及其应用

摘要

本发明公开了一种流化床反应器及其应用。其中，流化床反应器包括反应管，所述反应管内设置有扰流部件；所述扰流部件包括多组扰流叶片；所述多组扰流叶片沿竖直方向固定在所述反应管的内部。本发明的流化床反应器，在反应管内部增加了扰流部件，该扰流部件会对反应管内部的流体产生强制干扰，使流体充分返混，形成局部涡流，从而使气‑固相接触更加均匀，提高了流化床反应器的传质传热效率，进而提高了产率和产物质量；并且，该扰流部件结构简单，易于加工制造，便于使用过程中的维护。

主权项

一种流化床反应器，包括反应管，其特征在于，所述反应管内设置有扰流部件；所述扰流部件包括多组扰流叶片；所述多组扰流叶片沿竖直方向固定在所述反应管的内部；所述流化床反应器还包括进气法兰、布气板、加热组件及尾气法兰，所述进气法兰安装在所述反应管的下端口处，所述进气法兰上设置有进气管，所述进气管用于通入载气或反应气，同时，所述进气管还能喷入催化剂，所述尾气管安装在所述反应管的上端口处，所述尾气法兰上设置有尾气管，所述尾气管用于排出反应的尾气，所述布气板安装在所述反应管的下部区域；所述加热组件设置在所述反应管的反应区域的外围；所述多组扰流叶片焊接固定在所述反应管的内侧壁；或者，所述扰流部件还包括扰流轴；所述扰流轴固定在所述反应管的轴线上，所述扰流轴焊接或者卡设于所述反应管中；所述多组扰流叶片固定在所述扰流轴上；所述扰流叶片能够使所述反应管内部的流体返混并形成局部涡流，以使所述反应管内部的温度场和速度场分布均匀。