[发明专利]真空腔盖翻转装置在审
| 申请号： | 201410365826.8 | 申请日： | 2014-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN105317307A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 杨宏超;金一诺;张怀东;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | E05F11/02 | 分类号： | E05F11/02;F16H1/24 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 施浩 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种真空腔盖翻转装置，可以轻松且安全的翻转真空腔盖，提高工作效率。其技术方案为：包括基座；操作件，安装在基座之上，供用户进行腔盖翻转的操作；翻转件，位于基座上，卡住真空腔盖进行翻转；传动组件，位于基座内部，其输入端连接操作件，输出端连接翻转件，将操作件提供的动力输入转化为翻转件翻转的动力输出，带动真空腔盖开启或关闭。 | ||
| 搜索关键词： | 空腔 翻转 装置 | ||
【主权项】：
一种真空腔盖翻转装置，包括：基座；操作件，安装在基座之上，供用户进行腔盖翻转的操作；翻转件，位于基座上，卡住真空腔盖进行翻转；传动组件，位于基座内部，其输入端连接操作件，输出端连接翻转件，将操作件提供的动力输入转化为翻转件翻转的动力输出，带动真空腔盖开启或关闭。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于盛美半导体设备(上海)有限公司，未经盛美半导体设备(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410365826.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
